高纯水的制备工艺矿泉水设备

电子T业(如半导体器件、集成电路、显像管等)，大量使用各种级别的纯水、高纯水清洗半成品和成品。微电子工业(半导体器件、集成电路、显像管、电子检测、计算机主机板等)的产品质量、合格率、gr靠性与纯水或高纯水的水质有着密切的关系。随着电子工业的发展，尤萁足半导体工业的迅猛发展，对纯水的水质要求也不断提高，以前，那种将电阻率做为唯一衡量水质纯度的做法，经实践检验已远远不够，对水中阴离子含量、阳离子含量、颗粒数、有机物、细菌等逐步有丫定量的指标和限制。

　　在20世纪70年代中期，微粒、细菌，二氧化硅、钠和总有机碳这五项指标的确定，才确保了集成电路的质量。进入80年代，由于高纯水的制备工艺矿泉水设备再提高，对纯水水质要求尤其足微粒、细菌更加严格，在此基础上又增加丫溶解氧的限制指标，因为溶解氧的浓度过高，在硅片清洗过程中，氧气放出，不但会产生泡沫使品片表面无法完全清洗，而且热超纯水巾的溶懈氧还会腐蚀集成电路晶片。

　　20世纪90年代，集成电路已经发展到兆位级的亚微米技术，晶片的加工、清洗对纯水的水质要求就更加严格。为了保证生产需要，各大纯水处理公司均有自己一套流程系统，以适应不同集成度生产的需求，虽不尽完全相同，但基本都利用了反渗透、离子交换、超滤和其他膜分离技术，形成了一系列相f逝的标准流程。

　　我国微电子工业发展比较缓慢，超纯水制备技术也比世界发达同家落后许多，在已建成的集成电路生产厂中所有纯水制备均采用国外引进设备。